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実験機から生産機まで製作致します

３元RF・DCスパッタ装置

３元DCスパッタ装置

４元超伝導マグネトロンカソードスパッタ装置

【光学膜用蒸着装置】

【光学膜用蒸着装置】

【高温基板温度（１２００℃）超高真空蒸着装置】

全面エロージョンカソード、標準丸型（1～6インチ）カソード、矩形カソード等様々なカソードの製作が可能です。

エロージョンの半径、位置を制御できるカソードです。
ターゲットの利用効率アップ・アーキングの減少に効果が有ります。
又、特定場所（例えば　凹んだ場所）への選択的スパッタも出来ます。

放電位置を同心円上に２重・３重としたカソードです。
異種金属を同時にスパッタする事が可能です。
各ターゲットの放電電力も個別に制御出来ます。

（1） 外部ターゲット放電
（2） 内部ターゲット放電
（3） 内・外部ターゲット放電

１インチから６インチまでの小型円形カソードを標準化しています。
　◆国産ですから、安価でメンテナンス性も優れています。
　◆超高真空タイプも対応可能です。
　◆既存のチャンバに簡単に取り付け可能です。
　◆±45度に首を振る機構も可能です。